중국으로 국내 반도체 핵심기술 유출...국내 협력사 임직원 17명 기소

중국으로 국내 반도체 핵심기술 유출...국내 협력사 임직원 17명 기소: 조하은 / 기사승인 : 2021-01-28 23:38:30

최근 국내 기업인 삼성, SK 하이닉스의 반도체 핵심기술이 중국으로 유출되었다. 중국으로 핵심 기술을 빼돌린 임직원 17명이 재판에 넘겨졌다.

이들은 약 2년 동안 SK 하이닉스의 HKMG 반도체 제조기술과 반도체 세정 레시피를 중국 경쟁사에 빼돌렸다는 혐의와 삼성전자로부터 반도체 세정 장비 도면을 빼돌려 중국 업체에 넘겼다는 혐의를 받는다.

중국에 유출된 기술인 HKMG 기술과 반도체 세정 레시피에 대해 알아보자.

먼저 HKMG 기술에 대하여 알아보자. 반도체 기술은 공정이 세밀할수록, 수율이 높을 수록 발달한 기술이다. 하지만 공정이 세밀해질수록 누설전류가 생기는 문제가 발생한다. 반도체 속에는 금속과 규소 사이에 절연막이 존재하는데, 공정이 세밀해질수록 통상적으로 반도체의 크기가 작아지고, 전자의 이동을 막아내는 역할을 하는 절연막도 점점 얇아지기 때문에 누설전류의 문제가 발생하는 것이다.

이에 대한 해결방안이 HKMG 기술이다. HKMG는 High-k Metal Gate의 약자로 이 기술에 사용되는 물질이 ‘High-k’이다. 이 물질은 이산화규소와 비교하여 유전 상수가 높다. 이러한 특징으로 인하여 누설 전류의 발생을 방지하기 위해 High-k 물질이 절연막으로 사용된다.

HKMG 기술은 해외 유출이 금지되어 있다. HKMG 기술이 발전된다면 반도체, 나아가 디스플레이 크기 감소에 큰 도움이 되기 때문에, 세계 최고의 반도체 공정 기술을 보유하고 있는 우리나라의 HKMG 기술의 국외로의 유출은 엄청난 산업 손실이다.

다음으로 반도체 세정에 대해 알아보자. 반도체 세정공정은 400개 이상에 달하는 반도체의 메인 공정 중 15%가량을 차지하는 매우 핵심적인 공정이다. 반도체 공정 과정 중, 웨이퍼에 외형변화를 일으키는 공정을 진행하며 웨이퍼의 표면에 화학적, 물리적 잔류물이 남게 되고, 이 잔류물을 제거하는 공정이 세정이다.

우리가 통상적으로 생각하는 세척과 같은 과정이다. 웨이퍼를 제대로 세정하지 않으면 공정에 엄청난 손실을 불러일으킨다. 세정이 제대로 이루어지지 않을 시, 수율이 감소하고 기업 경영상의 문제로까지 이어질 수 있다.

앞서 알아본 반도체 공정 핵심기술이 국외로 유출되는 일은 이번이 처음이 아니다. 이런 범죄가 계속해서 발생한다면, 반도체 최강국의 타이틀을 빼앗길 수 있다. 똑같은 일이 반복되지 않도록 강력한 처벌이 내려질 수 있도록 모두가 관심을 가지고 재판 결과를 지켜보는 일이 중요할 것이다.